开发出替代光刻机制造工具!俄罗斯发力自研芯:7nm可期

商务办公
按照俄罗斯的说法,计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺,2027年实现28nm本土芯片制造,到2030年实现14nm国产芯片制造,而到2030年需要投资约3.19万亿卢布(384.3亿美元)。

10月12日消息,现在俄罗斯也是公布了自己的芯片发展路线,其要在2030年实现14nm国产芯片制造。

目前,俄罗斯微电子企业可以生产130nm制程的产品,但是这是远远不够的。

按照俄罗斯的说法,计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺,2027年实现28nm本土芯片制造,到2030年实现14nm国产芯片制造,而到2030年需要投资约3.19万亿卢布(384.3亿美元)。

在这之前,据俄罗斯国际新闻通讯社报道,圣彼得堡理工大学的研究人员开发出了一种“国产光刻复合体”,可用于蚀刻生产无掩模芯片,这将使“解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题”成为可能。

据介绍,其中一种工具的成本为500万卢布(当前约36.3万元人民币),另一种工具的成本未知。

据开发人员称,传统光刻技术需要使用专门的掩膜板来获取图像。该装置由专业软件控制,可实现完全自动化,随后的另外一台设备可直接用于形成纳米结构,但也可以制作硅膜,例如用于舰载超压传感器。

责任编辑:武晓燕 来源: 快科技
相关推荐

2023-10-07 06:52:44

光刻机进口中国

2022-04-11 13:59:32

光刻机开发芯片

2023-10-04 20:29:15

2022-05-06 11:18:39

芯片模型数据

2018-04-28 12:14:57

苹果处理器笔记本

2020-03-24 23:03:13

中芯7nm三星

2021-11-01 09:16:49

吉利芯片SOC

2022-07-06 14:32:55

光刻机芯片

2012-05-14 11:53:37

Intel处理器芯片

2013-04-15 10:56:57

美国俄罗斯超级计算机

2012-05-14 11:33:35

Intel7nm5nm

2019-06-23 15:00:44

芯片半导体技术

2017-12-21 11:09:31

AMD Navi显卡性能

2021-12-14 10:14:27

亿咖通芯擎ARM

2021-05-30 19:45:55

光刻胶光刻机芯片

2018-09-14 11:21:05

AMDGF研发

2023-10-23 07:46:02

台积电iPhone晶体管

2023-02-28 07:28:18

2018-02-06 14:44:26

AMDEPYC服务器

2018-06-12 14:27:47

AMD Vega核心面积缩小
点赞
收藏

51CTO技术栈公众号